Coneixement de la indústria|Quina importància té la puresa del gas en la fabricació de semiconductors?

Hi ha un consens ben-establert en la fabricació de semiconductors: el límit superior del rendiment dels xips es defineix pel disseny, mentre que el límit inferior del rendiment de producció depèn de la puresa del material.

La imatge prové d'Internet.

Des de la neteja d'hòsties i la deposició de-pel·lícula fina fins al gravat i el dopatge, el procés de producció d'una única hòstia de 12-polzades implica més de 30 tipus de gasos de procés, inclosos silà, amoníac, trifluorur de nitrogen, hexafluorur de tungstè, clorur d'hidrogen i molt més. Cada gas s'ha de lliurar a la cambra de reacció amb una puresa ultra alta.

Les impureses rastrejades a nivell de ppb (humitat, oxigen, partícules) que entren a la canonada de gas poden provocar defectes de pel·lícula fina-i contaminació interfacial, arrossegant directament el rendiment de producció. Prenent com a exemple el procés de 3 nm, cada xip individual val centenars de dòlars nord-americans; una simple fluctuació de l'1% del rendiment és suficient per esborrar beneficis valorats en desenes de milions.

Dins de la indústria dels semiconductors, "alta puresa" no equival a "procés-preparat". El veritable repte rau en la retenció de puresa - mantenir el gas lliure de contaminació-al llarg de tota la ruta de lliurament des de la font de gas fins al punt d'ús (POU).

Tres salvaguardes bàsiques treballen conjuntament per aconseguir-ho:

(1) Selecció de material: Els tubs i els cossos de vàlvules es fabriquen amb acer inoxidable 316L doble refós VIM+VAR per minimitzar la desgasificació elemental dels materials base.

(2) Acabat superficial: Rugositat de la superfície interna Ra Menor o igual a 0,25 μm (10 μin.) amb tractament d'electropolit (EP) per reduir l'adhesió de partícules i l'adsorció d'humitat.

(3) Integritat del segellat hermètic: Taxa de fuites d'heli Menor o igual a 1×10⁻⁹ atm·cc/s per bloquejar completament l'entrada de contaminació externa.

La línia de productes VIGOR VUPS Ultra-High Purity cobreix tota la cadena de subministrament de gas que compleix els estàndards SEMI, com ara accessoris de segellat-de cara metàl·lica de VCR, vàlvules de diafragma d'alta-puresa i reguladors de pressió de dos-etapes.

Tots els productes es munten, es posen a prova i s'envasen amb doble-bossa al buit-en sales netes de classe 100 abans de l'enviament. El que reben els clients no són només vàlvules individuals, sinó un sistema de garantia d'alta puresa-i-play ultra-complet.

Els productes VIGOR han funcionat de manera fiable en sistemes de subministrament de gas especialitzats i canonades de subministrament de gas CVD/PVD a nombroses fàbriques d'hòsties, compatibles amb gasos de procés crítics com el silà, el trifluorur de nitrogen i el triclorur de bor.

La fabricació de semiconductors és una carrera interminable contra els contaminants - i la missió de VIGOUR és garantir la línia de sortida més neta possible per a aquesta cursa.